粉底真空均質(zhì)乳化機內(nèi)外循環(huán)真空均質(zhì)乳化機是本公司結(jié)合*技術(shù)Z近研制的優(yōu)勢產(chǎn)品，適用擁堵生產(chǎn)粉底、膏霜、牙膏、等高粘度物料。
藥膏真空均質(zhì)乳化機本設(shè)備是集真空脫泡、攪拌、均質(zhì)、加熱，電控等功能于一體，是生產(chǎn)中高檔膏類，蜜類的理想設(shè)備，本設(shè)備由真空均質(zhì)乳化鍋，油相鍋，水相鍋，操作平臺，真空系統(tǒng)，壓料系統(tǒng)等組成。
在線式超高速乳化機，主要用于微乳液及超細(xì)懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔內(nèi)三組分散頭（定子+轉(zhuǎn)子）同時工作，乳液經(jīng)過高剪切后，液滴更細(xì)膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應(yīng)用。
遮瑕膏真空乳化機，真空均質(zhì)乳化機 是集真空泡沫，攪拌，均質(zhì)，加熱，電控等功能于一體，是生產(chǎn)中的高檔膏類、蜜類的理想設(shè)備，本設(shè)備有真空均質(zhì)乳化鍋，油相鍋，水相鍋，操作平臺，真空系統(tǒng)，壓料系統(tǒng)等組成。
可傾真空均質(zhì)乳化機引進(jìn)*科技，根據(jù)化妝品、藥膏類產(chǎn)品的制膏工藝而專業(yè)設(shè)計的，本機組操作簡單，性能穩(wěn)定，均質(zhì)性能好，生產(chǎn)效率高，清洗方便，結(jié)構(gòu)合理，占地面積少，自動化程度高等特點。
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮乳液是Z重要的，而一般市場上的乳化機由于定轉(zhuǎn)子精度以及機械密封的原因，轉(zhuǎn)速Z高只能達(dá)到2910轉(zhuǎn)，如此低的轉(zhuǎn)速跟不上市場上對物料乳化均質(zhì)效果的高要求。CIK研發(fā)出CR2000中試型三級乳化機解決了此難題，將轉(zhuǎn)速提高到了9000轉(zhuǎn)，剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄，成功解決了市場的需求。
